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蝕刻加工中堿性和酸性蝕刻的區別

來源: | 時(shí)間:2026-06-09 | 閱(yuè)讀文本僅需2分鍾

在化學蝕(shí)刻加工行業中,主要分為(wéi)堿性蝕刻和酸性蝕刻,那麽兩者有什麽區別呢?

蝕刻液

首先堿性蝕刻和酸性蝕刻的區別是蝕刻液的成分不(bú)同,堿(jiǎn)性蝕刻液主要成分(fèn)為氯化銅、氨水、氯化銨,補助成分(fèn)為氯化(huà)男、氯化(huà)銨、氯化鈷或者其他硫化物。酸性(xìng)蝕刻液主要成分為,氯化(huà)銅、鹽酸、氯(lǜ)酸鈉、氯化男、氯(lǜ)化銨。

其次兩者(zhě)的蝕刻用途不同,酸性蝕刻常見的有不鏽鋼蝕刻、以及內層(céng)電路圖(tú)形或者金(jīn)屬上麵直接蝕刻圖形製作。堿性蝕刻一(yī)般用於多層印製板外層電路圖紙製作以(yǐ)及純錫印製版。
最後(hòu)兩者的蝕刻速率控製不(bú)同,酸性蝕刻影響蝕刻速率的因素主要有Cl-、Cu+、Cu2+的含量及蝕刻液的溫度等。堿性蝕刻影(yǐng)響蝕刻速率的因素是蝕刻液中的Cu2+濃度、pH值、氯化銨濃度以及蝕刻液的溫度。酸性蝕刻(kè)補充藥液是H2O2﹑HCl;堿性蝕刻補充藥液是氨水。

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